Rapora göre Huawei, litografi ve fabrika ekipmanı geliştirmek için Şanghay’da büyük bir araç Ar-Ge merkezi kuruyor

Rapora göre Huawei, litografi ve fabrika ekipmanı geliştirmek için Şanghay’da büyük bir araç Ar-Ge merkezi kuruyor

Amerikalı, Avrupalı ​​ve Japon imalatçıların son teknoloji levha üretim araçlarına erişemeyen Çin, kendi üretim ekipmanlarını geliştirmek zorunda. Huawei, Şanghay yakınlarında dev bir araştırma ve geliştirme (Ar-Ge) merkezi inşa ediyor; burada ASML, Canon ve Nikon tarafından tasarlanan sistemlerle rekabet edebilecek çip yapım araçları geliştirmeyi planlıyor. Nikkei.

Ar-Ge merkezi, ileri teknoloji düğümlerde çip yapmak için gerekli olan litografi makinelerinin geliştirilmesine odaklanacak. Şimdilik Huawei’nin ortakları SMIC ve Hua Hong, 14nm/16nm FinFET tabanlı süreç teknolojilerinde ve daha gelişmiş süreçlerde mantık çipleri oluşturmalarına olanak tanıyan litho araçlarını alamıyor ancak yine de 28nm özellikli litografi sistemleri elde edebiliyorlar. Bu nedenle, Huawei tarafından geliştirilen makinelerin en az 28nm veya daha iyisi 14nm/16nm özellikli olması gerekecek. Şimdilik ASML, litografi araçları pazarının %90’ından fazlasını kontrol ediyor.

Yorum gönder